所属类别: ? 光学/激光加工系统 ? 无掩膜光刻系统
产品简介
DMD无掩膜光刻机
高速、广范围、低价格DMD式无掩膜光刻机!
AU-PALET光刻机是一款紧凑的DMD式无掩膜光刻机拥有高速、广范围、低价格、高分辨率、操作简单和可靠性高等特点。
DMD式无掩膜光刻机无需制造掩膜,采用DMD数字掩膜,可在抗蚀剂内曝光所希望的任意图案。无掩膜光刻机可以读取任何CAD数据,除此之外DMD式无掩膜光刻机还可以读取Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等其它格式。DMD式无掩膜光刻机使用365nmLED光源,降低价格的同时实现了稳定的曝光。采用10倍物镜,一次曝光面积可达1mm′0.6mm,曝光时间仅需1s。结合电动移动平台,可实现曝光拼接,分辨率可达到3mm。可通过公司编写的软件完成详细设定,使操作简洁方便。
与传统的光刻机不同,AU-PALET光刻机采用DMD数字掩膜光刻技术,无需制造掩膜。大大降低了时间和成本。无掩膜光刻机可以读取任何创建的CAD文件,直接进行光刻。除了CAD文件,还可以读取丰富的其它格式的数据,例如Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等。
AU-PALET DMD式无掩膜光刻机采用短波段的LED灯为光源,相对于其它的光源,拥有更高的稳定性和更长的寿命,降低价格的同时实现了稳定的曝光。AU-PALET 无掩膜光刻机为面曝光,采用10倍的物镜,一次曝光面积可达到1mm′0.6mm,结合电动平移台可实现曝光拼接,可达到更大的曝光面积。可通过公司编写的软件完成简单操作和详细设定,操作简洁方便。
上海昊量光电设备有限公司推出的DMD式无掩膜光刻机有两种。
① AU-PALET是一款快速光刻的无掩膜光刻机。本装置采用375nm的LED光源,实现了稳定的曝光,并且拥有更高的稳定性和更长的寿命。采用10′的物镜曝光面积达到1mm′0.6mm,光刻分辨率达到5mm,并在10s 内完成曝光。
②
②AU-PALET-_new 是AU-PALET的升版本,在光源上采用波长更短的365nm的LED灯作为光源,采用10′的物镜曝光面积达到1mm′0.6mm,光刻分辨率达到3mm,并在1s 内完成曝光。
l 高速度(1s)
l 广范围(1′0.6mm)
l 365nm LED光源
l 高分辨率 (3mm)
l 成本低
磁性薄膜等的任意形状的图案的形成
传感器,半导体器件的制作
MEMS器件的试制、
光电子,LED的试制
微流体器件的试制
掩膜版制作
细胞分离通道等的制作
光波导路的制作
型号 参数 | AU-PALET | AU-PALET_new |
光源 | 375nm LED | 365nm LED |
光刻分辨率(使用10倍物镜) | 5 mm | 3 mm |
曝光面积(使用10倍物镜) | 1mm′0.6mm | 1mm′0.6mm |
平台 | 手动XYZq平台 | 手动XYZq平台 |
构成 | 装置本身,电脑, 软件 | 装置本身,电脑, 软件 |
外形尺寸 | 420(W) x 300(D) x 600(H) | 300(W) x 450(D) x430(H) |
选项 | 2x镜头,电动平台等 | 2x镜头,电动平台等 |
更新时间:2023/11/11 17:14:01
半导体薄膜无损检测仪型号:
光弹性系数测量仪型号:
大孔径高功率光隔离器型号:
薄膜测量系统单点测量型号:MProbe 20
大尺寸皮MCP探测器型号:LAPPD
实时测量自相关仪型号:FR-103kHz
高功率自相关仪型号:FR-103HP
分光辐射亮度计型号:CS2000
Product classification
主营产品:昊量代理的产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件,连续激光器(CW),ns | ps | fs 脉冲激光器,可调谐激光器,激光量测设备,调制器,偏转器,滤波器,空间光调制产品,信号处理,分析设备,光谱仪器,相机系列,光学器件,光栅,光学晶体,光纤器件,位移台,偏转镜,旋转台,冷原子,量子光学产品,材料分析设备,光学检测设备,显微成像系统及组件,光学隔振平台,THz产品,X射线产品,等
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