发布时间:2020/5/18 16:20:57
标签:石墨烯CVD制备设备
石墨烯CVD制备设备
姓名:贺工(Kevin)
电话:180 1976 2603
邮箱:chinan-he@auniontech.com
这款配置的低真空CVD系统由1200℃真空管式炉,3通道气路系统和真空系统组成,可根据用户需要设计生产有双温区、三温区、多温区),可预抽真空(有高真空、低真空),通多种气氛(供气系统有质子流量控制器和浮子流量控制器〕。真空泵、阀均釆用进口设备,性能可靠。控制电跻选用模糊PD程控技术,具有控温精度髙,温冲幅度小,性能可靠,简单易操作等特点。CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等。
技术参数
1200双温区加热炉
电压 AC220V 50/60Hz
功率 4.5KW 双温控
Max温度 1150 °C
工作温度 ≤ 1100 °C
升温速率 ≤ 15°C/min
温控系统 PID自动控制晶闸管(可控硅)输出功率,30段可编程控制器
恒温精度 ±1°C
石英管 25/50/60/80*1400mm
三路质量流量控制系统
MAX电压 185~245V/50Hz
MAX输出功率 18W
流量计标准量程 50,100,200,500SCCM(非特殊指定以氮气标定,量程可选定)
工作温度 5~45 °C
工作压差 0.1~0.5 MPa
MAX压力 3MPa
准确度 ±1.5%FS
低真空系统
采用双极旋片真空泵
不锈钢充油真空压力表,良好的抗震性
安装过滤器
内置测温系统
测温元件可从加热区边缘延申至温区中心法兰密封,保证炉管的密封性测温元件,N型热电偶
法兰及支撑
304不锈钢快速水冷法兰,长期水冷无腐蚀,一个卡箍就能完成法兰的连接,放取物料方便快捷可调节法兰的支撑,平衡炉管的受力支撑。包含进气,出气,真空抽口针阀,KF密封圈及卡箍组合,4个密封硅胶圈等。
可选配件
混气系统,中,高真空系统,各种刚玉坩埚,石英管,计算机控制软件,无纸记录仪,氧含量分析仪,冷却水循环机。
更新时间:2023/11/11 17:14:07
小型微焦点X射线源型号:MICRO
DMD无掩膜光刻机型号:SMART PRINT UV
高光谱成像自动在线分选系统型号:SPECIMONE
40KHz高速斩波器型号:Optical Chopper
压电光纤/拉伸型光纤/大相位延迟量相位调制器型号:调制器
石墨烯CVD制备设备型号:石墨烯CVD
滑动式二硫化钼CVD制备设备型号:CVD
X射线聚焦镜型号:X射线聚焦镜
Product classification
主营产品:昊量代理的产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件,连续激光器(CW),ns | ps | fs 脉冲激光器,可调谐激光器,激光量测设备,调制器,偏转器,滤波器,空间光调制产品,信号处理,分析设备,光谱仪器,相机系列,光学器件,光栅,光学晶体,光纤器件,位移台,偏转镜,旋转台,冷原子,量子光学产品,材料分析设备,光学检测设备,显微成像系统及组件,光学隔振平台,THz产品,X射线产品,等
版权所有©上海昊量光电设备有限公司, All Right Reseverd ICP备案号: 沪ICP备08102787号-5 总访问量:492219 管理登录 阿仪网设计制作,未经允许翻录必究